Бизнес

США разрешают китайцам приобретать оборудование для производства полупроводников с минимальной заработной платой, но только для старых технологий.

Китайские источники со ссылкой на слухи среди участников рынка отчетчто крупнейший производитель полупроводников в Китае, SMIC, получил в США лицензию на закупку промышленного оборудования для производства микросхем с использованием отработанных технологических процессов. В этом есть простая логика. Запреты есть запреты, но Китай может оснастить себя необходимым оборудованием для производства чипов на 45 нм и, возможно, даже с более низкими технологическими стандартами. Запретить это значит потерять деньги.

До недавнего времени зрелые технологические процессы считались технологическими стандартами 28 нм и выше. Учитывая тот факт, что SMIC осваивает производство 14-нм техпроцессов и готовится использовать «зрелое» оборудование для производства чипов с расходом менее 10 нм, получение лицензии, безусловно, облегчит дальнейшую работу компания. Но что самое интересное в этой новости, так это то, что введение минимальной заработной платы в “черный список” запрет на работу с американскими компаниями китайских производителей не так страшен, как кажется. На этих слухах акции МРОТ на Гонконгской фондовой бирже сразу выросли.

Ходят слухи, что лицензии были выданы пакетами с единственной авторизацией в каждой на покупку оборудования, способного обрабатывать до 50 000 кремниевых пластин. Так что, кстати, ожидается, что тайваньским субподрядчикам, в том числе TSMC, будет разрешено работать с китайскими компаниями. Однако насчет разрешения TSMC выпускать чипы со стандартами 28 нм и выше для того же Huawei. сообщил… В чем китайцам, вероятно, будет отказано, так это в покупке линейных сканеров EUV и сопутствующего оборудования. Но главное, повторяем, санкции против минимальной заработной платы оказались не всеобъемлющими.



Если вы заметили ошибку, выделите ее мышью и нажмите CTRL + ENTER.

Related Articles

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Back to top button
Close
Close